数据中心高压架构:SiC 向左,GaN 向右
中金认为 2026 年是数据中心高压架构落地元年。AI 机柜功率从 Hopper 约 40kW、Blackwell GB300 NVL72 约 140kW,走向 Rubin 超 200kW、2027 年 Kyber 超 600kW、2028 年 Feynman 突破 1MW,相比传统 7kW 机柜功率标准接近 140 倍提升。低压交流架构在电流、铜耗、变换级数、散热、占地和可靠性上同步碰壁。
中金测算,2030 年单 MW 数据中心对应 SiC/GaN 器件分别约 1.0/2.1 万颗,单 MW 价值量约 22 万/4.9 万美元。架构演进上,2026/2027 年先由 800VDC sidecar 过渡,Phase 1 SiC 用量约 1594 颗/MW;Phase 2 中 GaN 在 on-blade power module 中大规模替代部分 SiC,GaN 用量约 10,303-10,667 颗/MW,SiC 仍在高压保护和固态断路器中保留刚需。
原文:中金点睛 - 中金 AI进化论(19):SiC向左,GaN向右,三代半导体成为数据中心高压架构的必然解 - 3270332840-2247845143_2